第一批天津市青年科技人才第一层次入选者、南开大学张磊教授立足解决先进光刻材料难题，从功能导向的团簇型光刻胶结构设计入手，创新性地将稀土元素“维生素效应”应用于极紫外（EUV）光刻领域，成功在EUV光刻中实现了15纳米的最小线宽；引入烯烃聚合和点击反应聚合协同策略，开拓了氧化钛团簇的光刻应用，稳步推进了与行业龙头单位的合作研究。

　　一年来，张磊教授在团簇光刻胶方向的最新成果发表SCI论文6篇，包括本领域高水平期刊《ACS Nano》和《Nano Letters》，受到国内外专家学者的广泛关注与高度认可。申请国家发明专利4项，授权国家发明专利1项，新增主持国家基金委重大研究计划集成项目。